1.1 को मोल्डमा हालको प्रभावclodud तह
| हालको(A) | Dएप्पल (फ्यूजन को)(mm) | Floor उचाई(mm) | चौडाई(mm) |
| 70 | 0.19 | 6.26 | 16..41 |
| 80 | 0.35 | ..0.07 | 17.0.08 |
| 90 | 0.888 | 3.43 | 1.4..48 |
| वेंवटा | 1.03 | 2.7333 | 17..58 |
| 110 | 1.225 | 2.6565 | 1.1.14 |
टेबल .1.1 क्रस-सेक्सको क्रस-सेक्सको क्रस-सेक्सको क्रस-सेक्सनको साथ फरक धाराहरूको साथ
वर्तमान बढ्दै जाँदा क्लाइञ्जेल तहको गहिराई र चौड़ाई बढेको छ र तह उचाइ घट्छ। यो वर्तमानमा बृद्धि भईरहेको छ, गर्मी धातुलाई मात्र पगार्नेछ, तर सब्सट्रेट खाने र सब्सट्रेट मिश्रण पनि हुन्छ, ताकि क्लेडिंग लेयरलाई पूरै बिन्दुको रूपमा। फ्यूजन को गहिराइ, लेन उचाई घट्छ; र वर्तमान वृद्धि, प्लाज्मा आर्कलाई कम मात्रामा भ्रामक बढाउँदछ, सब्सट्रेट स्प्रेड क्षमतामा पल्टिटो पोखरी अझ सुदृढ हुन्छ, त्यसैले पियो पोखरीको चौडाइ बलियो हुन्छ, त्यसैले पल्टिन पोखरीको चौडाइ बलियो हुन्छ, त्यसैले पियो पोखरीको चौडाइ बढ्छ।
1.2 प्रभावको प्रभाववेल्णमलट क्लाइडिंग तहको मोल्डमा गति
| वेल्डिंग गति(MM / s) | Dएप्पल (फ्यूजन को)(mm) | Floor उचाई(mm) | चौडाई(mm) |
| 4 | 1.17 | 3.34 | 1.6..61 |
| 5 | 1.06 | 2.7333 | 17..58 |
| 6 | 0.35 | 2.61 | 16..96 |
| 7 | 0.13 | 2.555 | 15.01 |
| 8 | - | - | - |
तालिका 3.22 क्रस-अनुभागीय म्यूमेलोटर रडलिंग लेमिट बिभिन्न वेल्डिंग गतिको साथ
वेँडिंगको गति बढाउने, क्लाइडिंग तहको फ्यूजनको गहिराई घट्नाले र त्यसपछि बिस्तारै सानो बन्न सक्छ, चौडाई घट्छ। जब वेल्डिंग गति एक हदसम्म चर्को गहिराईमा, फ्यूजन को गहिराइको साथ, फ्यूजनको गहिराई 1.17 मिमी हो, बेस सामग्रीलाई अगाडि पग्लन सक्दैन, फ्यूजन क्लाइमित तहले 3..3444 मिलेको उचाईको उचाईलाई ढेर जारी राख्दछ; वेल्डिंग गतिले MM मिली / एससम्म बढ्छ, प्रति इकाई इनपुटमा गर्मी इनपुट, तारको मात्रा घटाइएको छ, त्यसैले फर्मको उचाइ, चौडाई कम हुन्छ; यदि वेल्डिंग गति बढ्दै गयो भने, यस समयमा गर्मी इनपुट अपर्याप्त छ भने, आधार सामग्रीको सानो हिस्साले फराकिलो कटौती घटाउँछ र बिस्तारै सानो हुन्छ। कम यदि वेल्डिंग गति बढ्दै गयो भने, यस पटकको तातो इनपुट अपर्याप्त छ, फ्रन्ट स्ट्यान्डडि lar ्ग लेयनको रूपमा देखा पर्दैन, परिणामस्वरूप ठूलो घटाउँदैछ। फ्यूजन को गहिराइ, जबकि तह उचाई कम कम गरीएको छ।
Charding कलीवित तहको मोल्डिंगमा तारको 1.3 को प्रभाव
| तार-फीड राखिएको(MM / s) | Dएप्पल (फ्यूजन को)(mm) | Floor उचाई(mm) | चौडाई(mm) |
| 40 | 1.4333 | 2.224 | 19.91 |
| 50 | 1.225 | 2.56 | 1 ..86.86 |
| 60 | 1.03 | 2.7333 | 17..58 |
| 70 | 0.71 | 4.46 | 15.822 |
| 80 | 0.16 | .1.16 | 1.2.20 |
तालिका 3..3 क्ल्याण माध्यमको क्रस-सेक्सनको क्रस-सेक्सनको साथ विभिन्न वेयर फिर्ती गतिको साथ।
तारले खोजिरहेको रूपमा गति बढ्दै जान्छ, क्लाउड माध्यमिक तहको गहिराई र चौड़ाई घट्छ र तहको उचाइ बढ्छ। यो तथ्यको कारणले हो कि जब हालको र वेल्डिंग गति निश्चित हुन्छ, प्रति इकाई लम्बाईमा कम लम्बाइमा, र तारको लम्बाईको बृद्धिको मात्रा बढेको छ, र कल्याण धातु आवश्यकताहरू to absorb more heat, and when the heat input is unable to completely melt the whole cladding layer, the base material part is less melted, so the depth of melting decreases, and the height of the layer increases, and the spreading capacity of the cladding बेस सामग्री भागको नजिक धातु बिग्रँदै जान्छ, त्यसैले चौडाई द्रुत रूपमा कम हुन्छ। चौडाई द्रुत रूपमा घट्नेछ।
सारांशमा, प्लाज्माले 2205 डुप्लेक्स स्टेनलेस स्टि ister ्गीय प्रक्रिया प्यारामिटरहरू: हालको 90 0 A ~ 110 एक, वेल्डिंग स्पीड ~ MM / S ~ mm0 MM / s ion 1.5 l / मिनेटको आयन ग्यास प्रवाह दर।
2 फ्यूजन क्लाइम डे क्लाइम प्यारीले प्रक्रिया प्यारामिटर अनुकूलन को प्रतिक्रिया सतह विधिमा आधारित
प्रतिक्रिया सतह विधि (प्रतिक्रिया सतह विधि, इस्केपिकरण विधिहरू, परीक्षण डाटाको विश्लेषणको एक संयोजन र एक उपयुक्त प्रकार्यको मान र प्रतिक्रिया मानबाट प्राप्त गर्न सकिन्छ। , सहज रूपमा प्रभाव कारक प्रतिबिम्बित गर्न सक्दछ र वास्तविक परीक्षण बीचको सम्बन्धको प्रतिक्रिया मूल्य एक भविष्यवाणी, अनुकूलन भूमिका छ। माथिको कारणको आधारमा केन्द्रीय कम्पोजिट डिजाइन (केन्द्रीय कम्पोटिइट डिजाइन) प्रक्रियाको चयन प्रक्रियाको चयन, प्रक्रिया अनुकूलकरण कार्यक्रमको खोजी गर्न, वाल्डिंगको गति, तारको फराकिलो तह, को फ्यूटर क्लुटुनि। वर्तमान, वेल्डेरिंग गति, तारलाई थकित गतिमा गति र फ्यूजियोल मोडल, प्रोफेल क्लाइमहरू, प्रकार्यबाट आएको, प्रकार्यका अनुपात, प्रकार्यको पूर्वानुमान प्राप्त गर्न।
2.1 क्लाइन्डित तहको कमजोर दरमा प्यारामिटरको प्रभाव।
तालिका 8.8 प्रक्रिया अप्टिमाइजेसन परिणाम र प्रमाणिकरण
| दल | X1(A) | X2(मिमी सकूस-1) | X3(मिमी सकूस-1) | कमजोर अनुपात(%) | आकार अनुपात |
| भविष्यवाणी समूह | 99 | 6 | 50 | 14.8 | 33.36 |
| परीक्षण समूह 1 | 99 | 6 | 50 | 1 ..9 | 13.13 |
| परीक्षण समूह 2 | 99 | 6 | 50 | 15। .. | 4.56 |
| परीक्षण समूह 3 | 99 | 6 | 50 | 1 14..3 | 22.27 |
| औसत त्रुटि | 2.9 | 2.3 |
(PTA Shaghai Bumou द्वारा वेल्डिंग)
चित्र 3.1.16 इष्टतम प्रक्रिया प्यारामिटरहरूले परीक्षण परिणामहरू (a) परीक्षण समूह 1; (b) परीक्षण समूह 2; (c) परीक्षण समूह 3
उच्च-गुणवत्ताको क्लाइडिंग ले ले लेयरलाई सानो कमजोर दर र ठूलो पक्ष अनुपात गर्न खोज्यो। इष्टतम प्रक्रिया प्यारामिटरहरू: हालको 99 99 a, वेल्डिंग स्पीड Ms एमएम-एस-1, तार फिड गर्दै 300 MM-S-1। इष्टतम प्रक्रिया अन्तर्गत तयारी गरिएको क्लाइञ्जललको औसत सुगन्धित दर लगभग 1 14..6% छ, र औसत पक्ष अनुपात 4.3.33 हो, र आंशिक मान बीचको त्रुटि। छ उच्च डिग्री को सटीकता, र इष्टतम प्रक्रिया अन्तर्गत गठन गरिएको चतुर तह राम्रो छ।
पोष्ट समय: जनवरी -2-20224