Technologia obductionis lasericae nova est technologia magnis commodis oeconomicis praedita, quae superficies mixturarum metallicarum summae efficacitatis in substratis metallicis vilibus sine detrimento naturae substrati praeparare potest, sumptus minuere et materias pretiosas et raras conservare. Quare nationes industrialiter progressae mundi magnam vim investigationi et applicationi technologiae obductionis lasericae tribuunt. Applicatio obductionis lasericae praecipue duobus aspectibus constat, scilicet resistentia corrosionis (inclusa resistentia corrosionis altae temperaturae) et resistentia attritionis, cum lata applicationum varietate, ut superficies obsignationis valvularum et sedium valvularum machinarum combustionis internae, et obductio laserica separatorum aquae, gasis vel vaporis.

Caput obductionis lasericae praecipue constat ex: elemento nexus, elemento optico, et elemento pulveris alendo. Per caput obductionis lasericae, apparatus lasericus cum alimentatore pulveris connectitur, et per radium lasericum altae energiae, obductio celeriter perlustratur et a pulvere praeposito tractatur, qui statim liquefactus et solidificatur, et metallum basis deinde in stratum tenue liquefacitur, et interfacies inter haec duo celeriter diffusionem interactivam molecularis vel atomicae in area angustissima producit, et simul stratum metallurgicum firmum formatur, quod proprietates substrati, ut duritiam, resistentiam ad detritionem, et resistentiam corrosionis, etc., insigniter emendat.

Caput obductionis laseris praecipue transformationem semitae laseris et focalizationem pro obductione laseris praebet, sufficientem densitatem energiae generat ad pulverem metallicum liquefaciendum, et in genera recta et torta secundum semitas opticas diversas dividitur. Modulus speculi protectorius supra modulum collimationis ponitur ad obturaculum fibrae a contaminatione lentis collimationis durante insertione et extractione protegendum; modulus speculi protectorius infra modulum focalizationis ponitur ad lentem focalizationis a dispersione dispersionis durante processu liquefactionis protegendam.

Graphum oscillans est: － ▲ ◉⋈O