플라즈마 표면 처리 토치 300을 독립적으로 연구 개발

플라즈마 표면 처리 토치 300A는 다음과 같이 분해됩니다: 백 캡, 텅스텐 전극 클립, 텅스텐 전극, 토치 본체, 실드 가스 링, 분말 구멍 링, 물 구멍 링, 중앙 링, 노즐, 잠금 링, 실드 커버.

노즐: PTA 용접 토치의 핵심 분말 공급 구멍이 노즐 내부에 흩어져 있어 분말이 간섭 없이 플라즈마 아크에 공급되어 분말 클래딩을 완성합니다.

순환 냉각수 통로가 노즐에서 열리면 노즐이 효과적으로 냉각되고 노즐 구멍 벽의 온도가 낮아지며, 스프레이 건 공기실로 유입되는 일정 압력의 가스가 구멍 벽에 더 가까워지고 이온화도가 낮아져 구멍 벽과 다른 상태가 됩니다. 근접한 차가운 가스층은 기본적으로 이온화되지 않고 중성 가스가 되어 아크와 구멍 벽 사이에 절연 및 단열 중성 가스 흐름층의 원형이 형성되고 아크 전류는 가스 이온화도의 중심부에 집중됩니다. 아크 수축 중심 링: 구리 노즐의 중심 구멍이 텅스텐 전극과 동심원을 이루도록 합니다.